Принцип ультрафиолетового покрытия!

I. Обзор основных принципов

II. Подробное объяснение ключевых процессов

1Процесс покрытия

• Цель: Для равномерного и непрерывного нанесения ультрафиолетового покрытия на поверхность субстратов (таких как бумага, пластик, металл, дерево и т.д.) с образованием влажной пленки определенной толщины.
• Общие методы покрытия:
  • Покрытие на ролике: покрытие переносится на поверхность подложки через контакт между покрывающей роликой и подложкой.Подходит для плоских подложков и позволяет контролировать толщину покрытия.
  • Покрытие ножа: разрыв между ножом и подложкой используется для контроля количества покрытия.
  • Спрей-покрытие: покрытие атомизируется через сопла и распыляется на поверхность подложки, подходящей для сложных форм или подложки большой площади.
  • Покрытие занавески: покрытие образует равномерную "жидкую занавеску" через канал потока, и субстрат проходит под занавеской, чтобы завершить покрытие,который является эффективным и обеспечивает однородное покрытие.

2Процесс ультрафиолетового отверждения

• Основная реакция: После поглощения УФ-луча конкретных длин волн (обычно 200-400 нм), фотоиннициаторы в УФ-покрытии распадаются для образования свободных радикалов или катионов,провоцирующие реакции полимеризации в смолах (например, акрилаты), которые быстро превращаются из жидких в твердые скрещенные пленки.
• Ультрафиолетовые источники: широко используются ртутные лампы высокого давления, лампы галоридов металлов, светодиодные ультрафиолетовые лампы и т. д. Среди них светодиодные ультрафиолетовые лампы постепенно становятся популярными из-за их низкого энергопотребления,длительный срок службы, и одной длины волны (которая может соответствовать конкретным фотоинициаторам).
• Лечебные признаки: скорость отверждения чрезвычайно быстрая (обычно заканчивается в течение нескольких секунд), с низким потреблением энергии, без выбросов летучих органических соединений (ЛОС) (защита окружающей среды),и отвержденное покрытие имеет стабильную производительность.

III. Основная структура оборудования

1. Устройство для разворачивания: Используется для размещения рулонов подложки для обработки, обеспечивая плавное проникновение подложки в систему покрытия.
2. Система покрытия: Включает в себя валы для покрытия, скребцы, резервуары для покрытия и т.д., отвечающие за равномерное нанесение покрытия на поверхность подложки.
3. Устройство для сушки/предварительного отверждения(в некоторых моделях): для ультрафиолетовых покрытий, содержащих небольшое количество растворителя, сначала используется сушка при низкой температуре для удаления растворителя, чтобы избежать пузырей во время отверждения.
4. Устройство ультрафиолетового отверждения: Основная часть, включая УФ-лампы, отражатели, системы охлаждения (для предотвращения деформации подложки из-за высокой температуры) и т.д.
5. Устройство намотки: Переворачивает отвержденный субстрат в рулон для завершения обработки.
6. Система управления: Использует ПЛК и другое оборудование управления для регулирования таких параметров, как скорость покрытия, толщина покрытия и мощность УФ-лампы для обеспечения стабильной работы.

IV. Преимущества применения

• Эффективность: Быстрая скорость отверждения позволяет непрерывное производство и повышает производительность.
• Защита окружающей среды: Ультрафиолетовые покрытия не выделяют ЛОС, что соответствует экологическим требованиям.
• Отличная работа: Обработанное покрытие обладает высокой твердостью, сильной адгезией, износостойкостью, устойчивостью к химической коррозии и управляемым блеском (может достигать эффектов высокого блеска, мата и т. д.).
• Широкое применение: способен обрабатывать различные подложки, включая бумагу, пластик, металл, стекло и т.д.